Ионное травление.
Сущность ионного травления состоит в удалении поверхностных слоев материала при его бомбардировке потоком ионов инертных газов высокой энергии. При этом ускоренные ионы при столкновении с поверхностью пластин или подложек передают их атомам свою энергию и импульс.
* Ионное травление - процесс удаления загрязнений вместе с распыляемым в вакууме поверхностным слоем обрабатываемой поверхности при ее бомбардировке ускоренными ионами инертного газа.
Если во время столкновения энергия, передаваемая атому, превышает энергию химической связи атома в решетке, а импульс, сообщаемый атому, направлен наружу от поверхности, то происходит смещение атомов, их отрыв от поверхности - распыление. Для реализации этого процесса требуются определенные вакуумные условия, а ионы должны обладать определенными значениями энергий, достаточными для распыления материалов.
Разновидностью ионного травления является ионно-химическое (реактивное) травление, основанное на введении в плазму химически активного газа, обычно кислорода. При этом изменяется скорость травления вследствие химического взаимодействия между подложкой и добавленным газом.
Смотрите также
Алхимия как культурный феномен арабского и европейского средневековья
Алхимия осталась
феноменом Средневековья, тупиковой ветвью познания. Её долго обвиняли в том,
что она – лженаука, но во многом благодаря ей появилась истинная наука – химия.
В алхимиках же ...
Основные типы химической связи
Вам известно, что атомы могут соединяться друг с
другом с образованием как простых, так и сложных веществ. При этом образуются
различного типа химические связи: ионная, ковалентная (неполярн ...